IT之家 3 月 5 日讯息，日立当地时间 2 月 27 日称该企业已诱骗出了一种高智慧度半导体纰谬检测技艺，可通过机器学习的缓助检出 10nm 及更小尺寸的微纰谬。这项技艺已在二月末的 SPIE 先进光刻与图案化 2025 学术会议上展出。

跟着对高性能芯片的需求不休加多，半导体制造商对坐蓐中的质地收场愈发嗜好；而制程的微缩也意味着能成功影响性能的纰谬尺寸门槛逐渐裁汰，对纰谬检测智慧度的条款进一步培育。日立的这一技艺即是在该配景下应时而生的。

IT之家了解到，日立的机器学习纰谬检测技艺主要包含两大部分，即图像重建对比和过度检测羁系：

图像重建对比：检测系统最初通过大批添加噪点的“东谈主造”纰谬图像学习微纰谬的数据特征；本体使用时对扫描电镜相片尽量进行无纰谬版块重建，并对原始图像和重建图像进行对比，从而检出纰谬。

过度检测羁系：由于先进半导体制程的微缩，各异化功能电路和纰谬在图像上的分裂逐渐弄脏ManBetX网页版登录注册，而机器学习检测系统可对电路布局进行分类，并把柄电路特征退换智慧度，可减少 90% 的过度检测。